Palabras clave
Aluminio
pulverización catódica por radiofrecuencia
Cómo citar
Resumen
Las películas delgadas de aluminio (Al) son de gran interés para aplicaciones en telecomunicaciones, microelectrónica y la industria automotriz, entre otras, debido a su alta conductividad, excelentes propiedades ópticas y bajo peso. Sus propiedades dependen de la técnica de depósito y sus parámetros. En este trabajo, se analizaron las características cristalográficas, morfológicas y ópticas de películas delgadas de Al crecidas mediante pulverización catódica (sputtering) magnetrón de radiofrecuencia (RF). Se utilizó un blanco de aluminio en una atmósfera de argón (Ar), y se investigó el efecto de la potencia de pulverización en las propiedades de la película. Las muestras se caracterizaron por Difracción de Rayos X (XRD), Microscopía Electrónica de Barrido (SEM), Microscopía de Fuerza Atómica (AFM) y Espectroscopía UV-Vis. La calidad cristalina mejoró al aumentar la potencia. Los resultados de AFM y SEM revelaron un aumento en la rugosidad, el espesor y el tamaño de grano con una mayor potencia de pulverización. La espectroscopía UV-Vis mostró una menor reflectancia difusa a menor potencia en el rango de 190-900 nm. La mejora de las propiedades de la película se atribuye principalmente al aumento de la energía cinética de las especies pulverizadas, directamente relacionada con la potencia de RF aplicada.
Referencias
[1] F. M. Mwema, O. P. Oladimeji, S. A. Akinlabi, and E. T. Akinlabi, J. Alloys Compd. 747, 306 (2018).
[2] B. Wu et al., Vacuum 150, 144 (2018).
[3] Iqbal and F. Mohd-Yasin, Sensors 18, 1797 (2018).
[4] M. D. Serna-Manrique et al., Coatings 12}(7), 979 (2022).
[5] R. S. Tondare et al., Mater. Today Proc. 5, 2710 (2018).
[6] Tchenka et al., Adv. Mat. Sci. Eng. 2021, 5556305 (2021).
[7] J. Wang et al., Appl. Surf. Sci. 515, 146053 (2020).
[8] M. K. Sandager, C. Kjelde, and V. Popok, Crystals 12, 1379 (2022).
[9] Y. Gao, H. Leiste, S. Heissler, S. Ulrich, and M. Stueber, Thin Solid Films 660, 439 (2018).
[10] Ponmudi, R. Sivakumar, C. Sanjeeviraja, and C. Gopalakrishnan, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 30, 18315 (2019).
[11] Liu, J. Peng, Z. Xu, Q. Shen, and C. Wang, Metals 13, 583 (2023).
[12] H. A. R. O. O. N. Ejaz et al., J. Appl. Chem. Sci. Int. 13, 41 (2022).
[13] M. Singh et al., Mater. Today Proc. 5, 2696 (2018).
[14] F. Madaraka et al., Mater. Today Proc. 5, 20464 (2018).
[15] K. Balasubramanian et al., Proc. SPIE 9602, 96020I (2015).
[16] Pogodin et al., Biophys. J. 104, 835 (2013).
[17] Zhou, T. Li, X. Wei, and B. Yan, Metals 10, 896 (2020).
[18] Iqbal et al., J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 31}(1), 239 (2020).
[19] S. Yu, W. Xu, H. Zhu et al., J. Alloys Compd. 883, 160622 (2021).
[20] S. Asgary et al., Appl. Phys. A 127, 752 (2021).
[21] J. Li, G. K. Ren, J. Chen et al., JOM 74, 3069 (2022).
[22] J. Cheng et al., Chem. Eng. J. 509, 161242 (2025).
[23] Zöllner, Comput. Mater. Sci. 125, 51 (2016).
[24] Karoutsos et al., Coatings 14, 1441 (2024).
[25] L. Crouzier et al., Beilstein J. Nanotechnol. 10, 1523 (2019).
[26] G. Rincón-Llorente et al., Coatings 8, 321 (2018).
[27] C. A. Corrêa et al., RSC Adv. 14, 15220 (2024).
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